水處理設(shè)備脫鹽率快速下降的原因

1、高壓差導(dǎo)致脫鹽率下降

壓差升高同時往往伴隨著脫鹽率快速下降。

在正常的流量下，壓差的上升通常是由于膜元件水流量通道的隔網(wǎng)進(jìn)入雜質(zhì)，污染物質(zhì)和水垢引起的，導(dǎo)致產(chǎn)水流量的下降。

當(dāng)超過設(shè)定的給水流量時，也會發(fā)生過大的壓差，當(dāng)啟動時給水壓力提升過快，發(fā)生水錘壓差會很大，如果膜已經(jīng)被污染，特別是微生物污染，壓差也會增大。

給水至濃水間的壓差表示的是水力阻力，與給水的流速、溫度有關(guān)，應(yīng)該保持產(chǎn)水和濃水有一定的流速。

出現(xiàn)高壓差的可能性有：水垢、微生物污染、阻垢劑沉淀、過濾器過濾介質(zhì)漏、給水/濃水密封損壞。

2、在線化學(xué)清洗不合理

超純水設(shè)備在運行中是不可避免被污染。

預(yù)處理和添加各種藥劑只能將反滲透被污染的可能性降到最低，而不能徹底的杜絕。

因此，長期運行的反滲透系統(tǒng)在經(jīng)過一定時間的運行后，必須要充分論證和確認(rèn)是哪一種污染物。

針對聚酰胺膜的特點，可以根據(jù)相應(yīng)的污垢選取適當(dāng)?shù)那逑磩?/span>

鹽酸(36%-38%)，配制成0.12%稀溶液，去除金屬氧化物質(zhì)。

氫氧化鈉，配制成0.1%的稀溶液，去除二氧化硅、微生物膜、有機物等，pH約為12。作用是對有機微生物粘膜的水解破壞而剝離，對于二氧化硅膠體垢，形成的硅酸鈉為可溶性，從而除垢。

乙二胺四乙酸四鈉，作為螯合劑廣泛應(yīng)用于工業(yè)清洗，1%水溶液pH10.5-11.5，加入濃度0.5%-1%。

十二烷基磺酸鈉，屬陰離子表面活性劑，目的是分散在溶液中的有機化合物，可使溶液的表面張力降低，引起正吸附，這樣可使溶液表面溶質(zhì)分子的的濃度大于溶液內(nèi)部溶質(zhì)分子的濃度。十二烷基磺酸鈉是反滲透清洗是最主要的表面活性劑，加入濃度為0.025%。

甲醛，甲醛對細(xì)菌、真菌、病毒、芽胞及原蟲等皆有極強的殺滅力，加入濃度為0.5%-35。

3、余氯的控制差

次氯酸鈉作為殺菌劑，廣泛應(yīng)用于青島水處理設(shè)備預(yù)處理中。在反滲透系統(tǒng)中，為防止反滲透的微生物污染，對反滲透進(jìn)水要進(jìn)行氯化處理。用比色計測定余氯，控制余氯的質(zhì)量濃度在砂過濾器進(jìn)口處一般為0.5mg/L，不小于0.3mg/L，在反滲透前保安過濾器處應(yīng)小于0.1mg/L。而聚酰胺類膜的突出問題是防止其被氧化。進(jìn)水余氯值和強氧化均對其造成不利的影響，必須嚴(yán)格控制。因而定期檢測反滲透進(jìn)水的余氯值極為重要。